최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기주관연구기관 | 서울과학기술대학교 |
---|---|
연구책임자 | 김호경 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2020-06 |
과제시작연도 | 2020 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO202100012502 |
과제고유번호 | 1345314828 |
사업명 | 개인기초연구(교육부)(R&D) |
DB 구축일자 | 2021-08-14 |
키워드 | 광대역반도체.원자층 증착법.계면특성.소자 성능.전하수송 메커니즘.밴드갭 조절. |
□ 연구개요
본 연구의 목표는 얇은 박막을 금속/광대역반도체 계면 사이에 삽입한 뒤, 그 때에 나타나는 전기적 특성 변화를 조사한 뒤 소자 성능을 향상시키는 것임.
▪ 금속/광대역반도체 (GaN, ZnO 및 SiC) 계면에 원자층 증착법 (atomic layer deposition: ALD)을 이용해 유전체 산화물(Al₂O₃, HfO₂), 광대역반도체(AlN) 등을 삽입하였을 때의 계면 특성 조사
▪ 광대역반도체 기반 박막삽입형 다이오드/트랜지스터 제작 및 전기적 특성 연구
▪ 얇은박막/반도체 구조를 이용 다른
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.