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NTIS 바로가기주관연구기관 | 전남대학교 Chonnam National University |
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연구책임자 | 김도형 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2020-10 |
과제시작연도 | 2020 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
과제관리전문기관 | 한국연구재단 National Research Foundation of Korea |
등록번호 | TRKO202100015382 |
과제고유번호 | 1711110534 |
사업명 | 개인기초연구(과기정통부)(R&D) |
DB 구축일자 | 2021-10-23 |
키워드 | 전산모사.원자층 증착법.층덮임.QCM센싱. |
□ 연구개요
본 연구에서는 원자층 증착(Atomic Layer Deposition, ALD)에서의 층덮임(conformality) 특성을 예측할 수 있는 수학적 모델식 개발을 위한 성막 kinetics 연구 및 전산 모사 기반 구축을 위한 실험적 핵심 변수 도출하는 것임. 또한 이를 통하여 3차원 ALD 공정(Atomic Layer Deposition, ALD) 전산 모사용 수학적 모델식의 개발 및 최적화는 것임. 이러한 목표를 달성하기 위하여 모델 ALD 반응 공정에 대한 장치의 설계와 증착조건 최적화가 진행되었고, 얻어진
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