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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국화학연구원 Korea Research Institute of Chemical Technology |
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연구책임자 | 이수연 |
참여연구자 | 박장웅 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2020-11 |
과제시작연도 | 2020 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
연구관리전문기관 | 한국연구재단 National Research Foundation of Korea |
등록번호 | TRKO202100016058 |
과제고유번호 | 1711103723 |
사업명 | 나노·소재기술개발(R&D) |
DB 구축일자 | 2021-11-06 |
키워드 | 탈평면.3차원 인쇄.나노소재.전극.페이스트.Non-planar Surface.3D printing.nanomaterial.electrode.paste. |
고전도성 후막전극 형성을 가능케할 수 있는 탈평면 인쇄공정 적용이 가능한 전극잉크소재를 개발하고자 함. 또한, 수동/능동소자의 실장을 위한 3차원 인터커넥션 기술을 개발하고자 함.
▶ 급속광소성기반 탈평면 인쇄공정용 구리전극소재 개발
- 소결가능두께 (green body 기준) >15 ㎛, 구리전극 비저항 < 15 μΩ·cm, 고점도 페이스트 저장탄성계수 > 103 Pa, 탈평면 구조물 경사도 > 50°
▶ 소자실장을 위한 3차원 인터커넥션 기술 개발
- 연결 가능 단차 > 1 mm, 배선
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