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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국산업기술대학교 Korea Polytechnic University |
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연구책임자 | 전환진 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2021-03 |
과제시작연도 | 2020 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
과제관리전문기관 | 한국연구재단 National Research Foundation of Korea |
등록번호 | TRKO202100017007 |
과제고유번호 | 1711112038 |
사업명 | 개인기초연구(과기정통부)(R&D) |
DB 구축일자 | 2022-02-05 |
키워드 | 표면구조.차세대 리소그래피.플라즈마 공정.고종횡비.고분해능.surface-structures.next-generation lithography.plasma process.high-aspect-ratio.high-resolution. |
□ 연구개요
본 연구단의 표면구조화 공정기술을 기반으로 각 소자에 적합한 전기적/광학적/구조적 특성을 극대화할 수 있는 맞춤형 표면구조의 제작공정을 확보하는 것을 목표로 하였음. 위의 목표를 달성하기 위해, 각 단위공정기술 (증착/식각/열처리 공정, 구조 전사기술, 나노물질 제어기술)과 융합하여 맞춤형 표면구조가 생성된 목적형 기판 설계 및 공정기술을 확보하고, 이를 기반으로 다양한 고성능 응용소자를 개발함.
□ 연구 목표대비 연구결과
*연구 목표를 모두 달성하였으며, 아래와 같이 내용을 기재함. 괄호[] 안
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