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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술원 Korea Advanced Institute of Science and Technology |
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연구책임자 | 황준식 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2021-06 |
과제시작연도 | 2020 |
주관부처 | 교육부 Ministry of Education |
등록번호 | TRKO202100018463 |
과제고유번호 | 1345320489 |
사업명 | 이공학학술연구기반구축(R&D) |
DB 구축일자 | 2022-02-26 |
키워드 | 금속 3차원 프린팅.간섭리소그래피.광전극.전착 공정.나노 패터닝.metal 3D printing.interference lithography.photoelectrode.electrodeposition.nano patterning. |
□ 연구개발 목표 및 내용
최종 목표 : 광 유도 전착을 이용한 나노미터 해상도의 금속 3D 프린팅
전체 내용 : 광전극과 레이저 간섭 리소그래피를 통한 나노 스케일 금속 3차원 적층 공정의 개발
□ 연구개발성과
간섭 리소그래피 공정을 구현하여, 감광제의 나노 패턴 구현을 확인하였고, 금속 3차원 적층 공정의 구현을 위한 저가 나노엑츄에이터를 개발하였다. 또한 전착 공정을 포함하는 용액 기반 레이저 공정을 통해서 주기적 나노구조체를 제작하고, 나노 물질의 성능 향상을 유도하는 전착 공정을 성공적으로 확립
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