최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기주관연구기관 | 건국대학교 KonKuk University |
---|---|
연구책임자 | 최진식 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2021-06 |
과제시작연도 | 2020 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
연구관리전문기관 | 한국연구재단 National Research Foundation of Korea |
등록번호 | TRKO202100018865 |
과제고유번호 | 1711118915 |
사업명 | 개인기초연구(과기정통부)(R&D) |
DB 구축일자 | 2022-03-05 |
키워드 | 대면적 그래핀.화학기상증착.자외선 처리.패턴 소자.2차원 소재.large area graphene.chemical vapor deposition.UV treatment.patterned device.2D material. |
연구개요
본 연구에서는 CVD로 합성된 대면적 그래핀에 광화학 표면 처리 방법을 이용한 대면적 산화그래핀 패턴 응용 소자를 개발하는 것을 목표로 한다.
연구 목표대비 연구결과
본 연구에서는 광화학 표면 처리를 이용해 균일한 대면적 단일층 산화그래핀을 얻고, 산화그래핀 균일성에 대한 분석 연구와 패턴화 된 산화그래핀 소자 응용성 연구를 목표로 하고자 하였다. 기존의 산화그래파이트 플레이크는 강한 산과 초음파 세정을 이용한 화학-물리적인 액중 박리 방법으로 제작되고 있고, sp2 결합을 가진 그래핀에 산화물 작용
해당 보고서가 속한 카테고리에서 활용도가 높은 상위 5개 콘텐츠를 보여줍니다.
더보기 버튼을 클릭하시면 더 많은 관련자료를 살펴볼 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.