![(a) CGI-1907의 구조, (b) RF-T shape-tBoc의 패턴 사진 [감광재료 대비 10% (w/w)의 CGI-1907], (c) RF-T shape-tBoc의 패턴 사진 [감광재료 대비 5% (w/w)의 CGI-1907]](https://nrms.kisti.re.kr/bitextimages/TRKO202200005441/TRKO202200005441_29_image_1.png "(a) CGI-1907의 구조, (b) RF-T shape-tBoc의 패턴 사진 [감광재료 대비 10% (w/w)의 CGI-1907], (c) RF-T shape-tBoc의 패턴 사진 [감광재료 대비 5% (w/w)의 CGI-1907]")
![(a) HFE-7500에 녹여 도포한 RF-hexaphenol-tBoc의 패턴 사진 [감광재료 대비 5% (w/w)의 CGI-1907], (b) HFE-7700에 녹여 도포한 RF-hexaphenol-tBoc의 패턴 사진 [감광재료 대비 5% (w/w)의 CGI-1907]](https://nrms.kisti.re.kr/bitextimages/TRKO202200005441/TRKO202200005441_30_image_118.png "(a) HFE-7500에 녹여 도포한 RF-hexaphenol-tBoc의 패턴 사진 [감광재료 대비 5% (w/w)의 CGI-1907], (b) HFE-7700에 녹여 도포한 RF-hexaphenol-tBoc의 패턴 사진 [감광재료 대비 5% (w/w)의 CGI-1907]")
![Si wafer 상부 P(FDMA-ran-α-BMOMA)RAFT (FDMA:α-BMOMA = 1 : 0.25)의 패턴 이미지(a), [(b)는 (a)를 확대한 이미지]](https://nrms.kisti.re.kr/bitextimages/TRKO202200005441/TRKO202200005441_56_image_1.png "Si wafer 상부 P(FDMA-ran-α-BMOMA)RAFT (FDMA:α-BMOMA = 1 : 0.25)의 패턴 이미지(a), [(b)는 (a)를 확대한 이미지]")
![4 inch Si wafer 전면에 P(FDMA-ran-αBMOMA)]RAFT 코팅 후 7 μm 패턴 확보한 이미지](https://nrms.kisti.re.kr/bitextimages/TRKO202200005441/TRKO202200005441_65_image_132.png "4 inch Si wafer 전면에 P(FDMA-ran-αBMOMA)]RAFT 코팅 후 7 μm 패턴 확보한 이미지")
선택한 단어 수는 입니다.
최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
선택한 단어 수는 30입니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
| 주관연구기관 | 인하대학교 InHa University |
|---|---|
| 연구책임자 | 이진균 |
| 참여연구자 | 정병준 |
| 보고서유형 | 최종보고서 |
| 발행국가 | 대한민국 |
| 언어 | 한국어 |
| 발행년월 | 2020-07 |
| 과제시작연도 | 2020 |
| 주관부처 | 산업통상자원부 Ministry of Trade, Industry and Energy |
| 연구관리전문기관 | 한국산업기술평가관리원 Korea Evaluation Institute of Industrial Technology |
| 등록번호 | TRKO202200005441 |
| 과제고유번호 | 1711115714 |
| 사업명 | 전자정보디바이스산업원천기술개발(R&D) |
| DB 구축일자 | 2022-07-23 |
| 키워드 | 유기발광 디스플레이.포토리소그라피.화소형성.고해상도.고불소계용제.고불소화 감광재료. |
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.