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Kafe 바로가기주관연구기관 | 한양대학교 HanYang University |
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연구책임자 | 박진구 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2018-07 |
과제시작연도 | 2017 |
주관부처 | 산업통상자원부 Ministry of Trade, Industry and Energy |
과제관리전문기관 | 한국산업기술평가관리원 Korea Evaluation Institute of Industrial Technology |
등록번호 | TRKO202200007080 |
과제고유번호 | 1711058701 |
사업명 | 전자정보디바이스산업원천기술개발 |
DB 구축일자 | 2022-09-03 |
키워드 | 극자외선 노광 기술.포토마스크.펠리클.세정.결함. |
3. 개발결과 요약
□ 최종목표
EUV 마스크 오염물 제거를 위한 세정 기술 개발
- 유기오염물 세정공정 개발
- 미세 오염입자 세정공정 개발
- EUV 마스크 박막 특성 및 패턴 연구
고투과성 EUV 펠리클 개발
- EUV 용 펠리클 전산모사 연구(Optical, Thermal, Mechanical)
- EUV 용 펠리클 제작 연구
저오염 EUVL 공정의 구현
- EUV 마스크 세정 기술과 펠리클의 적용을 통한 EUVL 공정 효율의 개선
□ 개발내용 및
3. 개발결과 요약
□ 최종목표
EUV 마스크 오염물 제거를 위한 세정 기술 개발
- 유기오염물 세정공정 개발
- 미세 오염입자 세정공정 개발
- EUV 마스크 박막 특성 및 패턴 연구
고투과성 EUV 펠리클 개발
- EUV 용 펠리클 전산모사 연구(Optical, Thermal, Mechanical)
- EUV 용 펠리클 제작 연구
저오염 EUVL 공정의 구현
- EUV 마스크 세정 기술과 펠리클의 적용을 통한 EUVL 공정 효율의 개선
□ 개발내용 및 결과
EUVL 용 펠리클 전산모사 연구
• 11 nm 패턴에 적용 가능한 펠리클 제작을 위한 광학적 특성 연구 – 펠리클 투과율에 영향을 미치는 인자들에 대한 전산 모사 확인
• 11 nm 패턴에 적용 가능한 펠리클 제작을 위한 구조적 특성 연구 – 중력에 의한 처짐 및 다층 구조에서의 안정성 전산 모사 확인 및 검증
• 열 분포 (균일하거나 국부적인 분포)에 따른 펠리클의 처짐과 깨짐 연구 – 다층 구조, 표면 오염물에 따른 열적 스트레스 전산모사 진행 및 안정성 확인
• 박막 표면에 발생하는 오염 물질 연구 – 표면상의 오염물에 의한 열적, 광학적 특성 변화 확인 및 안정성 검증
EUVL 용 펠리클 제작 연구
• 대면적 펠리클 제작을 위한 펠리클 제조 설비 구축
• SiNx 펠리클 멤브레인 기반의 다중 박막 펠리클 멤브레인 제작 연구
• EUV 펠리클 박막의 물성 개선을 위한 다양한 복합구조체 펠리클 제작
• EUV 펠리클 박막의 기계적/열적 특성 강화를 위한 다양한 복합구조체 펠리클 제작
EUV 마스크 세정기술 연구
• 실제 EUV 마스크 표면상의 미세 금속 입자 세정 공정 연구 – 메가소닉 세정공정 및 첨가제 적용한 입자 제거 세정공정 개발
• EUV 마스크 표면 유기 오염물 제거를 위한 SPM 대체 세정 공정 연구 – 유기 용매 기반의 오염물 세정액 개발
• EUV 마스크 (backside) 후면 세정을 위한 건식 세정공정 연구 –후면세정을 위한 CO2 건식 세정 개발 (세정율 96%)
□ 기술개발 배경
EUV 마스크 세정 공정의 필요성
• EUV 마스크의 주 재료인 Blank 마스크의 경우, Multilayer의 구조에 의해서 phase defect으로 작용하는 substrate의 pit과 오염 입자 등의 Multilayer defect이 존재함
• 반사형 마스크 구조와 짧은 노광 파장으로 인해 phase defect은 DUV 마스크 대비 57배 더 민감함
• EUVL 공정의 수율 향상을 위해서는 표면에 존재하는 defect의 효과적인 관리가 필수적이며, 고가의 마스크의 lifetime 증가를 위해 매우 중요한 요소임
• 기본적으로 마스크 제조 공정에서 발생되는 표면의 오염물들을 효과적으로 관리 및 제거가 필요하며, 현재 기존 Lithography 공정과 달리 오염물로부터 마스크를 보호하기 위해서 사용되는 펠리클의 적용이 어려운 EUVL 공정의 경우 표면에 발생하는 유기 오염물과 미세 입자의 제거가 필요함
EUV 마스크용 펠리클 필요성
• EUVL 기술은 극자외선 광이 대부분의 물질 (기체 포함) 에 흡수되는 특성에 의해 기존의 투과형 렌즈를 사용하지 못하고 반사형 렌즈 시스템을 사용
• 노광 공정에서 패턴 전사를 위해 사용하는 마스크는 매우 고가로서, 노광 공정에 사용하는 자외선이 주변 대기 중의 부유물이나 마스크 표면 세정 잔유물을 활성화시켜 표면에 흡착이 됨
• 공정 중 발생하는 오염물에 의한 불량 패턴의 형성은 막대한 손실을 가져오며 이를 해결하기 위한 오염물질을 검출하는 inspection 장비의 개발이나 제거 기술 등에 대한 연구가 진행 중
• 펠리클은 오염물질로부터 마스크를 보호하는 구조물로서, 노광공정에서 마스크에 부착하여 오염층을 방지
• 펠리클에 오염층이 생기더라도 초점이 웨이퍼 뒤에 맺히기 때문에 패턴에 영향을 미치지 않음
□ 핵심개발 기술의 의의
• 차세대 EUVL 공정에 대응하는 마스크 펠리클 제작 기술 확보
• 공정 환경에서 노출되는 영향에 대한 전산모사 기술을 통한 펠리클 교체 주기 및 제작 예측 시스템 도입
• 노광 공정에서 발생하는 오염물에 대한 이해와 제거를 통한 마스크 세정액 및 공정 개발
□ 적용 분야
• EUVL 공정에서의 펠리클 제작 공정 및 장비, 마스크 세정 공정 공정 및 장비
(출처 : 최종보고서 초록 5p)
과제명(ProjectTitle) : | - |
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연구책임자(Manager) : | - |
과제기간(DetailSeriesProject) : | - |
총연구비 (DetailSeriesProject) : | - |
키워드(keyword) : | - |
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연구목표(Goal) : | - |
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