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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술원 Korea Advanced Institute of Science and Technology |
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연구책임자 | 정연식 |
참여연구자 | 송경민 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2022-01 |
과제시작연도 | 2021 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO202200009720 |
과제고유번호 | 1711151269 |
사업명 | 한국과학기술원연구운영비지원(R&D)(주요사업비) |
DB 구축일자 | 2022-09-24 |
키워드 | 디스플레이.퀀텀닷.선택적 습윤 현상.패턴화 기술.용액 공정.Display.Quantum dot.Selective wetting.Patterning.Solution process. |
Ⅲ.연구개발결과
(1단계) 다중 물질, 고른 두께의 패턴을 위한 선택적 습윤 기반 퀀텀닷 패턴화 기술 개발 : 필름 두께의 균일성을 위한 비파괴형 기술과 다중 패턴화를 달성하기 위한 얼룩 방지 전략을 개발하였다.
(2 단계) 높은 해상도의 풀 컬러 어레이와 높은 효율의 패턴형 퀀텀닷 발광다이오드 프로토 타입 제작 및 최적화: 높은 해상도의 풀 컬러 어레이를 유기정공 수송층에서 구현하고 복잡한 패턴의 다중 색 퀀텀닷 디스플레이 프로토 타입도 제작하였다.
(출처 : 요약문 4p)
II. Result and discussion
(Step 1) Development of selective wetting-based quantum dot patterning technology for multi-material, uniform-thickness patterns: A non-destructive technology for uniformity of film thickness and an anti-smudge strategy to achieve multi-patterning are developed.
(Step
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