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소자 응용을 위한 HfS2 전이금속-다이칼코겐 (TMD) 반도체 세그먼트의 선택적 영역 에피택셜 성장 연구
Study on selective area epitaxial growth of transition-metal dichalcogenide (TMD) HfS2 segments for device applications 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 전북대학교
Chonbuk National University
연구책임자 박광욱
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2022-03
과제시작연도 2020
주관부처 과학기술정보통신부
Ministry of Science and ICT
등록번호 TRKO202200013496
과제고유번호 1711148370
사업명 개인기초연구(과기정통부)(R&D)
DB 구축일자 2022-10-19
키워드 이황화하프늄.전이금속-다이칼코겐.CVD 성장.2차원물질.선택적영역성장.HfS2.TMD.CVD growth.2D material.SAG.

초록

□ 연구개요
본 과제는 반도체 소자 응용을 위한 HfS2 반도체 세그먼트의 선택적 영역 에피택셜 성장 기술 연구로서 thermal chemical-vapor deposition (CVD) 장비를 이용하여 HfS2의 성장 파라미터에 따른 성장 최적화 방법을 연구하고, 이를 토대로 선택적 위치에만 HfS2가 성장할 수 있도록 기판 위에 증착된 유전체에 음각 패턴을 형성 후 최적화 성장 조건으로 음각 패턴의 선택적 영역에 HfS2의 성장을 진행하였으며 전

목차 Contents

  • 표지 ... 1
  • 연구결과 요약문 ... 2
  • 목차 ... 3
  • 1. 연구개발과제의 개요 ... 4
  • 1. 전이금속 다이칼코게나이드 (TMD) 반도체 ... 4
  • 2. 연구방법 ... 5
  • 2. 연구개발과제의 수행 과정 및 수행 내용 ... 5
  • 1. 실험 방법 ... 5
  • 2. 샘플 표면 처리방법 의존성 ... 6
  • 3. 샘플 성장 후 냉각 프로세스 의존성 ... 7
  • 4. HfCl₄의 온도 의존성 ... 8
  • 5. HfCl₄의 pre-heating 의존성 ... 8
  • 6. 성장 샘플의 분석 및 선택적 영역 성장 ... 10
  • 7. 대체 성장 방법 연구 ... 11
  • 3. 연구개발과제의 수행 결과 및 목표 달성 수준 ... 12
  • 4. 연구개발성과의 관련 분야에 대한 기여 정도(연구개발결과의 중요성) ... 13
  • 5. 연구개발성과의 관리 및 활용 계획 ... 14
  • 1. Epitaxial phase conversion 공정 개발 ... 14
  • 2. 공기중 노출에 의한 특성 변화 제어 ... 14
  • 6. 참고문헌 ... 14
  • 붙임1. 세부 정량적 연구개발성과 ... 15
  • 붙임2. 연구책임자 대표적 연구실적 및 증빙(요약문 및 사본) ... 17
  • 끝페이지 ... 32

참고문헌 (25)

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