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NTIS 바로가기주관연구기관 | 전북대학교 Chonbuk National University |
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연구책임자 | 김주진 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2023-03 |
과제시작연도 | 2022 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
과제관리전문기관 | 한국연구재단 National Research Foundation of Korea |
등록번호 | TRKO202300008931 |
과제고유번호 | 1711167465 |
사업명 | 개인기초연구(과기정통부) |
DB 구축일자 | 2023-09-27 |
키워드 | 쇼트키 접촉.오믹 접촉.2 차원 층상 물질.페르미준위 고정.투과 접합.Schotky contact.Ohmic contact.2 dimensional layered material.Fermi level pinning.Tunnel junction. |
□ 연구개요
본 연구에서는 2차원 층상물질과 금속전극이 원자 수준에서 접촉 계면 손상이 없어 페르미 준위 고정이나 일함수 변화가 일어나지 않는 이상적인 쇼트키 접촉을 제작하려고 하고, 궁극적으로 적절한 일함수를 가지고 표면 손상을 초래하지 않는 물질 및 기법을 탐색하여, 이차원 층상물질과 금속전극 사이에 장벽없는 진정한 오믹 접촉 형성 기법을 탐색한다.
□ 연구 목표대비 연구결과
본 연구에서 달성한 주요 연구 결과는 다음과 같다.
- 표면 손상이 없는 이상적인 In/MoS2 접촉 형성
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