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NTIS 바로가기주관연구기관 | 서진 |
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연구책임자 | 이배근 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2021-08 |
과제시작연도 | 2020 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
연구관리전문기관 | 한국산업기술진흥협회 Korea Industrial Technology Association |
등록번호 | TRKO202300029310 |
과제고유번호 | 1711122081 |
사업명 | 고용위기기업부설연구소R&D전문인력활용지원 |
DB 구축일자 | 2024-06-18 |
키워드 | 마이크로웨이브.열처리.유전가열.실리콘웨이퍼. |
□ 연구개발 목표 및 내용
■ 최종 목표
반도체 소재용 마이크로웨이브 열처리장비 개발
● 승온 속도 : 분당 40℃ 이상 (100 x 100㎜ 크기 발열체 기준)
● 최대 상승 온도 : ~ 1600℃ 이하
● Cabity 단열성능 : 40℃ 이하 (Cabity 외함 기준)
● Microwave Power : 1KW (2.45GHz)
■ 전체 내용
● 2.45GHz의 범용 Magnetron에 의한 마이크로파 유전가열을 이용하여 반도체용 소재(Si-wafer, 검사용 금속 Powder 등)을
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