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NTIS 바로가기주관연구기관 | 건국대학교 KonKuk University |
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연구책임자 | 민요셉 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2024-03 |
과제시작연도 | 2023 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
연구관리전문기관 | 한국연구재단 National Research Foundation of Korea |
등록번호 | TRKO202400007560 |
과제고유번호 | 1711181435 |
사업명 | 개인기초연구(과기정통부) |
DB 구축일자 | 2024-09-10 |
키워드 | 원자층증착법.전구체.반응기.다공성.침투.atomic layer deposition.precursor.reactor.porous.infiltration. |
□ 연구개요
원자층증착법은 원자층 수준에서 박막의 성장을 조절할 수 있기 때문에 다양한 산업 분야에 활용될 여지가 매운 높은 공정이지만, 값비싼 전구체를 사용하여 공정비용이 높기 때문에 ALD의 장점을 다양한 산업분야에 활용하는데 있어서 큰 제약이 되고 있음. 특히, 분말 또는 다공성 담체에 대하여 powder ALD를 수행하여 촉매를 제조하고자 하는 연구들이 추진되고 있지만 고가의 전구체에 기인하는 powder ALD의 높은 공정비용은 해결해야할 과제임. 본 연구에서는 ALD를 분말 또는 다공성 담체에 적용하여 박막을 증착하
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