선택한 단어 수는 입니다.
최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
선택한 단어 수는 30입니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기Electron Beam Resist, Electron beam, Langmuir-Blodgett, Langmuir-Blodgett(LB), Resist, 단분자 분자막, 분자박막, 엘비막, 전자선, 포토레지스트
✱ 연구자의 연구 실적은 논문, 특허, 보고서로부터 자동 식별된 정보입니다. 연구 실적에 대한 보완이 필요하거나 문의가 있는 경우, 저작권 관리 안내 페이지를 참고하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.