국내 연구진이 군사용 레이더에 쓰이는 질화갈륨(GaN) 집적회로 양산에 나선다.
한국전자통신연구원(ETRI)은 22일 원내에서 통신업체 RFHIC와 함께 질화갈륨 집적회로 공정 기술을 상용화하기 위한 ‘다기능 레이더(MFR)-질화갈륨(GAN) 공동 연구실’을 출범했다.
군사용 레이더는 원거리를 정밀하게 탐지하기 위해 높은 출력을 내는 소자를 필요로 한다.
질화갈륨은 전력 밀도가 높고 열 전도도가 뛰어나 군 레이더에 활용할 수 있는 차세대 전력 소자 용 소재로 주목받고 있지만, 선진국에서는 관련 기술과 제품의 수출을 통제하고 있다.
ETRI는 지난해 S밴드(Band·주파수 대역)에서 Ka밴드까지 다양한 주파수 대역에서 동작하는 질화갈륨 전력 소자와 고주파 집적회로 칩을 개발한 바 있다.
이를 바탕으로 RFHIC와 함께 다기능 레이더용 질화갈륨 집적회로 공정·설계 기술을 개발할 계획이다.
민간기업에 기술을 지원해 질화갈륨 집적회로 전력 소자 부품을 양산할 수 있도록 도울 방침이다.
강동민 ETRI RF/전력부품연구실장은 “이번 연구를 통해 국방 부품 원천기술을 확보, 외산 기술과 부품을 대체하는 데 기여하겠다”고 말했다.