Sputtering 방법으로 제조한 YBa_(2)Cu_(3)O_(7-y)초전도 박막의 Annealing 조건에 따른 특성 연구 (A) Study of Characteristics on Annealing Conditions of YBa_(2)Cu_(3)O_(7-y) Superconducting Thin Films prepared by Sputtering Method원문보기
YBa_(2)Cu_(3)O_(7-y) 초전도박막을 dc-magnetron sputterring 방법으로 MgO(100), SrTiO_(3)(100) 기판위에 증착한 후 여러가지의 annealing 조건에 따라 제조하였었다. 사용된 target은 Y:Ba:Cu = 1:4:2.5, 1:3:5의 조성비를 가졌으며, 이때 증착된 film의 두께는 2.8㎛이고, 증착율은 2.6 Å /sec이었다. 시편들 중 가장 높은 Tc는 52K 이었으며, MgO(100) 기판위에 1:3:5 target을 사용하여 증착한 후 900℃, 30min동안 annealing한 것이다. 또한 모든 시편들은 orthorhombic 구조를 가졌고, MgO(100) 기판위에서는 c-축으로 성장되었고, SrTiO_(3)(100) 기판위에서는 a-축으로 성장되었다. ...
YBa_(2)Cu_(3)O_(7-y) 초전도박막을 dc-magnetron sputterring 방법으로 MgO(100), SrTiO_(3)(100) 기판위에 증착한 후 여러가지의 annealing 조건에 따라 제조하였었다. 사용된 target은 Y:Ba:Cu = 1:4:2.5, 1:3:5의 조성비를 가졌으며, 이때 증착된 film의 두께는 2.8㎛이고, 증착율은 2.6 Å /sec이었다. 시편들 중 가장 높은 Tc는 52K 이었으며, MgO(100) 기판위에 1:3:5 target을 사용하여 증착한 후 900℃, 30min동안 annealing한 것이다. 또한 모든 시편들은 orthorhombic 구조를 가졌고, MgO(100) 기판위에서는 c-축으로 성장되었고, SrTiO_(3)(100) 기판위에서는 a-축으로 성장되었다. SEM 미세사진 관찰에서 film의 grain들은 약 0,6㎛ 정도의 크기와 침상형의 grain을 가졌다. AES 측정으로부터, 1:3:5 target을 사용하여 MgO(100) 기판위에 증착한 박막의 조성비는 Y:Ba:Cu:O = 1:1.6:4.4:5.5 이었고, 박막의 깊이에 따라서 조성비가 균일하였다.
YBa_(2)Cu_(3)O_(7-y) 초전도 박막을 dc-magnetron sputterring 방법으로 MgO(100), SrTiO_(3)(100) 기판위에 증착한 후 여러가지의 annealing 조건에 따라 제조하였었다. 사용된 target은 Y:Ba:Cu = 1:4:2.5, 1:3:5의 조성비를 가졌으며, 이때 증착된 film의 두께는 2.8㎛이고, 증착율은 2.6 Å /sec이었다. 시편들 중 가장 높은 Tc는 52K 이었으며, MgO(100) 기판위에 1:3:5 target을 사용하여 증착한 후 900℃, 30min동안 annealing한 것이다. 또한 모든 시편들은 orthorhombic 구조를 가졌고, MgO(100) 기판위에서는 c-축으로 성장되었고, SrTiO_(3)(100) 기판위에서는 a-축으로 성장되었다. SEM 미세사진 관찰에서 film의 grain들은 약 0,6㎛ 정도의 크기와 침상형의 grain을 가졌다. AES 측정으로부터, 1:3:5 target을 사용하여 MgO(100) 기판위에 증착한 박막의 조성비는 Y:Ba:Cu:O = 1:1.6:4.4:5.5 이었고, 박막의 깊이에 따라서 조성비가 균일하였다.
The YBa_(2)Cu_(3)O_(7-y) superconducting thin films of 2.8㎛ thickness deposited by dc-magnetron sputtering method on MgO(100) and SrTiO_(3)(100) substrates have been prepared on various annealing conditions. The compositions of targets used are either Y:Ba:Cu = 1:4:2.5 or 1:3:5. Then the thickness o...
The YBa_(2)Cu_(3)O_(7-y) superconducting thin films of 2.8㎛ thickness deposited by dc-magnetron sputtering method on MgO(100) and SrTiO_(3)(100) substrates have been prepared on various annealing conditions. The compositions of targets used are either Y:Ba:Cu = 1:4:2.5 or 1:3:5. Then the thickness of thin filmes deposited is 2.8㎛, and the deposition rates are 2.6Å/sec. It has been found that a sample of thin film deposited on MgO (100) using 1:3:5 target and annealed at 900℃ for 30min has the highest Tc(zero) of 52K. All samples have orthorhombic structure and on MgO(100) substrates c-axis orientation is observed while a-axis orientation occurs on SrTiO_(3)(100) substrates. In SEM image observations, the grain of films are about 0.6㎛ and needle-like morphology. From AES measurements, the film compositions deposited on MgO(100) using 1:3:5 target are Y:Ba:Cu:O = 1:1,6:4.4:5.5 and homogeneous films on depth.
The YBa_(2)Cu_(3)O_(7-y) superconducting thin films of 2.8㎛ thickness deposited by dc-magnetron sputtering method on MgO(100) and SrTiO_(3)(100) substrates have been prepared on various annealing conditions. The compositions of targets used are either Y:Ba:Cu = 1:4:2.5 or 1:3:5. Then the thickness of thin filmes deposited is 2.8㎛, and the deposition rates are 2.6Å/sec. It has been found that a sample of thin film deposited on MgO (100) using 1:3:5 target and annealed at 900℃ for 30min has the highest Tc(zero) of 52K. All samples have orthorhombic structure and on MgO(100) substrates c-axis orientation is observed while a-axis orientation occurs on SrTiO_(3)(100) substrates. In SEM image observations, the grain of films are about 0.6㎛ and needle-like morphology. From AES measurements, the film compositions deposited on MgO(100) using 1:3:5 target are Y:Ba:Cu:O = 1:1,6:4.4:5.5 and homogeneous films on depth.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.