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NTIS 바로가기All films were deposited by sputtering onto Si (100) substrates that were solvent cleaned in an ultrasonic bath. The surface stress evolution in Cr film and Co/Cr multilayer was measured by in situ stress measurement system during and after sputtering deposition, using a laser beam reflected from a ...
저자 | 하걸욱 |
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학위수여기관 | 한국과학기술원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 재료공학과 |
발행연도 | 2003 |
총페이지 | iv, 102p. |
키워드 | 스퍼터링 Cr 박막 다층박막 표면응력 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T9399326&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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