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TiO₂ 는 우수한 화학적 안정성, 효과적인 전하분리, 높은 산화-환원력 및 사업적 응용성을 갖기 때문에 가장 유망한 광촉매 소재로 알려지고 있다. 기존의 TiO₂ 광촉매는 주로 powder 형태로 제조 하였으나, powder는 광촉매 사용 후 회수가 어렵기 때문에 이러한 결점을 보완하기 위하여 TiO₂ 박막형태로 지지체에 고정하는 방법에 연구자들의 관심이 집중되고 있다. 본 연구에서는 PECVD(...

TiO₂ 는 우수한 화학적 안정성, 효과적인 전하분리, 높은 산화-환원력 및 사업적 응용성을 갖기 때문에 가장 유망한 광촉매 소재로 알려지고 있다. 기존의 TiO₂ 광촉매는 주로 powder 형태로 제조 하였으나, powder는 광촉매 사용 후 회수가 어렵기 때문에 이러한 결점을 보완하기 위하여 TiO₂ 박막형태로 지지체에 고정하는 방법에 연구자들의 관심이 집중되고 있다. 본 연구에서는 PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition)을 사용하여 기존의 CVD법보다 증착 공정을 저온화 하면서 박막의 광촉매적 특성은 더 증대 시키기 위한 목적으로 진행 되었다. 일반적으로 TiO₂의 anatase 결정상은 약 500℃ 부근에서 형성이 되나 PECVD법을 사용하여 그 공정온도를 300℃까지 낮출 수 있음을 XRD를 이용하여 확인하였다. 대체로 증착온도를 증가시키거나 discharge power는 감소시켰을 때 박막의 증착속도, 접착력, 광촉매적 특성이 우수해졌다. 그리고 sol-gel법에 의해 제조된 광촉매 박막과의 광촉매적 특성 비교를 위해 메틸렌블루 분해 실험과 대장균 살균 실험을 수행한 결과 PECVD법의 적절한 조건에서 제조된 박막이 상대적으로 우수했다.

Abstract ▼ AI-Helper

TiO₂ thin films were deposited on slide glasses by low temperature plasma process, PECVD, with TTIP as a precursor and argon as a carrier gas, and their photocatalytic characteristics were investigated. The films were amorphous when deposited at low temperatures but crystalline with anatase structur...

TiO₂ thin films were deposited on slide glasses by low temperature plasma process, PECVD, with TTIP as a precursor and argon as a carrier gas, and their photocatalytic characteristics were investigated. The films were amorphous when deposited at low temperatures but crystalline with anatase structure at temperatures higher than 300℃. The film deposited at 400℃ and 5W showed excellent adhesion to a substrate and the best photocatalytic activity. The photocatalytic activity was evaluated based on the degradation efficiency of MB and bactericidal effect against E. coli under the irradiation of UV-A light. Concentration of MB was reduced from 5.0 ppm to 3.5 ppm in 3 hours. 99% of E. coli (2x105 CFU/ml) was killed in 1 hour.