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NTIS 바로가기In this thesis, a CMOS process using impurity diffusion is designed and evaluated. In order to evaluate this CMOS process, CMOS test patterns are fabricated and the model parameters, which are compatible with SPICE level 2 MOSFET parameters, are extracted. The threshold voltages, mobilities and subt...
저자 | 방인혁 |
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학위수여기관 | 한국과학기술원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 전기및전자공학전공 |
지도교수 | 이희철,Lee, Hee-Chul |
발행연도 | 2001 |
총페이지 | iv, 76 p. |
키워드 | CMOS diffusion impurity readout driving circuit 불순물 확산 공정 회로 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T10515772&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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