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NTIS 바로가기In-10wt%Sn 합금 타겟을 사용하여 ITO를 D.C.반응성 마그네트론 스퍼터링법에 의해 qualtz유리와 코닝 #1737유리 기판위에 증착했다. 산소와 아르곤은 기판의 산화를 방지하기 위해 각각 기판과 타겟 앞에서 주입되어졌다. 산소유량비를 8%-16%, 기판온도를 100-200도까지 변화시키면서 특성을 비교 분석하였다. 비저항은 기판 표면온도가 150도 이상이 되면 거의 변화가 없었고 산소 유량비 12%인 지점에서 최소가 관찰되었다. 홀 계수와 미세구조가 이러한 비저항의 변화를 해석하기 위해 측정되어졌다. 최적지점에서는 캐리어 유동도가 비저항을 결정하는 주된 요소임이 관찰되었다. 좀 더 깊은 고찰을 위해 산소 유량비에 따른 고유응력과 방향성이 XRD에 의해 측정되어졌다. 산소 유량비12%인 지점에서 가장 높은 ...
Tin-doped indium oxide(ITO)thin films were deposited on quartz glass and corning glass #1737 substrates by D.C. reactive magnetron sputtering using an In-10wt%Sn alloy target. Oxygen was introduced near the substrate in order to reduce oxidation of target. Argon was done near the target. The films w...
저자 | 이정일 |
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학위수여기관 | 한국과학기술원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 재료공학과 |
지도교수 | 최시경,Choi, Si-Kyung |
발행연도 | 2000 |
총페이지 | iv, 74 p. |
키워드 | ITO Stress Density Magnetron sputtering 산화물 전극 응력 밀도 마그네트론 스퍼터링 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T10515878&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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