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[국내논문] 산소 가스 유량 변화에 따른 ITO 박막의 제작
Preparation of ITO thin film with oxygen gas flow 원문보기

한국표면공학회 2007년도 추계학술대회 논문집, 2007 Nov. 12, 2007년, pp.107 - 108  

금민종 (성균관대학교 신소재공학과) ,  전아람 (성균관대학교 신소재공학과) ,  최동훈 (성균관대학교 신소재공학과) ,  이교웅 (성균관대학교 신소재공학과) ,  한전건 (성균관대학교 신소재공학과)

초록
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마그네트론 스퍼터링 장치를 이용하여 산소 가스 유량 변화에 따른 ITO 박막을 실온 제작하였다. 그 결과 산소 가스 유량의 증가에 따라 박막의 비저항이 감소하였으며 적정 유량 이상에서는 비저항이 증가하였다. 또한 산소 가스 유량을 3 sccm으로 고정한 후 ITO 박막의 두께를 변화시킨 경우 막 두께 40nm 이상에서 부터는 $0.6{\sim}0.8$ $m{\Omega}-cm$의 비저항과 가시광 영역에서 80% 이상의 광투과율 특성을 나타내었다.

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구에서는 실온에서 산소 가스 유량 및 기판 변화에 따라 제작된 ITO 박막의 연구를 통해 다음과 같은 결론을 얻을 수 있었다. 산소 가스 유량 3sccm에서 제작된 ITO 박막의(막 두께 50nm) 비저항이 가장 낮은 값을 얻을 수 있었으며, 산소 가스 유량을 3sccm으로 고정하여 ITO 박막 두께를 변화시켜 제작한 경우, 막 두께가 20~40nm로 증가 할 경우 비저항의 급격한 감소를 나타내었으며 그 이상 막 두께 증가 시 약간씩 감소하였다.
  • 그러나 폴리머 기관의 경우 온도에 매우 취약한 단점을 갖고 있기 때문에 ITO 박막은 가급적 낮은 온도에서 제작해야만 한다. 따라서 본 연구에서는 산소 가스 유량비 변화에 따른 ITO 박막을 실온에서 제작하였으며 glass와 PC 기관을 사용하여 ITO 박막의 전기·광학적 특성 변화에 관해 연구하였다.
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