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NTIS 바로가기본 논문에서는 나노 임프린트 리소그래피(NIL)를 성공적으로 수행하기 위하여 점착방지막이 연구개발 되었다. NIL 기술은 기존의 포토 리소그래피에서 일어나는 빛의 간섭이나 회절과 같은 현상이 없으며 상대적으로 적은 비용으로 대면적의 나노급 패턴을 제작할 수 있는 장점이 있다. NIL 공정에서 패턴은 물리적인 접촉을 통해 형성되며 열 또는 ...
In this dissertation, optimizations and characterizations of antistiction layers were carried out for the successful NIL (nanoimprint lithography) process and new applications were developed by NIL process. NIL is known as a practical method for fabricating from nanometer to micrometer patterns on p...
저자 | 차남구 |
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학위수여기관 | 한양대학교 대학원 |
학위구분 | 국내박사 |
학과 | 금속재료공학과 |
발행연도 | 2007 |
총페이지 | 353 p. |
키워드 | 금속공학 |
언어 | eng |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T10931516&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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