최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기Pad conditoning 은 CMP 공정 중에 패드 기공의 하중에 의해 감소된 Material Removal Rate (MRR)을 회복하는 데 필요한 과정이다. Pad conditioner 가 장 시간 사용되는 경우 ...
The pad conditioning is a necessary process to recover material removal rate (MRR) which is reduced by the filling of particles on the pad pores during the CMP process. If the pad conditioner is used for a long time, the residual contaminants such as slurry particles and polishing by-products have b...
저자 | 손일룡 |
---|---|
학위수여기관 | 한양대학교 대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 바이오나노공학과 |
발행연도 | 2009 |
총페이지 | 58 p. |
키워드 | 나노공학 |
언어 | eng |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T11552545&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.