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NTIS 바로가기반도체 소자의 비약적인 발전은 여러 산업 분야의 성장을 촉진 발전 시켰다. 그 중심에서 반도체 소자의 feature size의 감소는 초소형, 저 전력, 고기능의 특성을 갖는 소자의 생산을 가능하게 하였으며 이를 기반으로 소자의 재현성, 생산성 증가로 이어져 반도체 산업을 성공시킨 필수적인 요건이 되어왔다. 이런 반도체 소자의 feature size 감소는 특정 패턴의 선폭에 대한 미세화가 필수적인 요건이며, 미세한 선폭을 형성시키기 위한 노광기술은 feature size 감소의 핵심 기술로 대두되고 있다. 국내외적으로 반도체 산업은 차세대 반도체 노광 기술의 개발에 집중되고 있으며 현재까지의 노광 기술은 주로 광원의 파장을 최대한 줄임으로써 ...
저자 | 김진태 |
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학위수여기관 | 전남대학교 대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 물리학과 |
지도교수 | 황인각 |
발행연도 | 2010 |
총페이지 | 67 p. |
키워드 | 전자빔 리소그래피, EBL, 리소그래피, 전자현미경 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T11930713&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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