1990년대 중반에 처음으로 제안 된 나노임프린트 기술은 현재까지의 광을 이용한 미세패턴기술의 한계를 뛰어넘을 수 있는 기술로 주목받아 그에 관련한 분야에서의 연구가 꾸준히 진행되고 있다. 현재 미국이나 유럽에서 가장 활발하게 연구가 진행중에 있으며, 아시아권에서도 일본이나 한국, 대만 등의 나라에서 연구가 진행되고 있다. 현재 몇몇 나라에서는 이미 임프린트 장비를 제작하고 실제 제품을 생산하고 있다. 국내에서도 기계연구원이나 NND등에서 임프린트 장비를 제작하고 판매하고 있다.
임프린트는 전사방식과 경화방식 등에 의해 구분되는데 전사방식에 의해서는 일괄전사방식, ...
1990년대 중반에 처음으로 제안 된 나노임프린트 기술은 현재까지의 광을 이용한 미세패턴기술의 한계를 뛰어넘을 수 있는 기술로 주목받아 그에 관련한 분야에서의 연구가 꾸준히 진행되고 있다. 현재 미국이나 유럽에서 가장 활발하게 연구가 진행중에 있으며, 아시아권에서도 일본이나 한국, 대만 등의 나라에서 연구가 진행되고 있다. 현재 몇몇 나라에서는 이미 임프린트 장비를 제작하고 실제 제품을 생산하고 있다. 국내에서도 기계연구원이나 NND등에서 임프린트 장비를 제작하고 판매하고 있다.
임프린트는 전사방식과 경화방식 등에 의해 구분되는데 전사방식에 의해서는 일괄전사방식, Roll to Roll방식, S-FIL방식으로 나뉘고 경화방식에 의해서는 열경화방식과 UV경화방식으로 나뉜다. 본 논문에서는 일괄전사방식과 UV경화방식을 이용하여 연구를 진행하였고 추가적으로 대면적 일괄전사를 위한 구조와 방안에 대해 연구하였다.
본 논문에서 임프린트기술을 이용하여 LCD의 광원인 BLU의 LGP에 미세패턴을 전사하는 방법에 관해 연구를 진행 하였고 이를 위한 대면적 일괄전사방식의 UV 임프린트 리소그래피장치를 공정별로 나누고 각각의 공정별 문제점과 해결방안들에 대해 연구하고 실험하여 그 결과를 통해 해결방안을 정리하였다. 공정은 각각 레진을 Substrate에 코팅하는 도포공정, 레진이 코팅된 Substrate에 패턴이 새겨진 스탬프를 이용하여 패턴을 전사하는 전사공정, 전사 된 패턴에 UV를 조사하여 레진을 경화시키는 경화공정, 형성된 패턴을 스탬프에서 떼어내는 이형공정으로 이와 같이 4개의 공정으로 분류하였다. 공정별로 Wire screen printing, Bellows type self-balancing modul, Edge type UV curing system, DLC coating, Primer coating과 같은 해결 방안을 얻었으며, 분류한 공정별로 연구를 진행한 결과로 제작한 LGP패턴의 전사율과 전사율 편차, BLU의 휘도와 휘도 편차 등을 통해 장치를 평가하였고, 그 결과 17''이하의 대면적에 마이크로 패턴을 전사함에 있어서 높은 전사율과 낮은 전사편차, 낮은 잔류층 두께편차 등을 확인할 수 있었다.
1990년대 중반에 처음으로 제안 된 나노임프린트 기술은 현재까지의 광을 이용한 미세패턴기술의 한계를 뛰어넘을 수 있는 기술로 주목받아 그에 관련한 분야에서의 연구가 꾸준히 진행되고 있다. 현재 미국이나 유럽에서 가장 활발하게 연구가 진행중에 있으며, 아시아권에서도 일본이나 한국, 대만 등의 나라에서 연구가 진행되고 있다. 현재 몇몇 나라에서는 이미 임프린트 장비를 제작하고 실제 제품을 생산하고 있다. 국내에서도 기계연구원이나 NND등에서 임프린트 장비를 제작하고 판매하고 있다.
임프린트는 전사방식과 경화방식 등에 의해 구분되는데 전사방식에 의해서는 일괄전사방식, Roll to Roll방식, S-FIL방식으로 나뉘고 경화방식에 의해서는 열경화방식과 UV경화방식으로 나뉜다. 본 논문에서는 일괄전사방식과 UV경화방식을 이용하여 연구를 진행하였고 추가적으로 대면적 일괄전사를 위한 구조와 방안에 대해 연구하였다.
본 논문에서 임프린트기술을 이용하여 LCD의 광원인 BLU의 LGP에 미세패턴을 전사하는 방법에 관해 연구를 진행 하였고 이를 위한 대면적 일괄전사방식의 UV 임프린트 리소그래피장치를 공정별로 나누고 각각의 공정별 문제점과 해결방안들에 대해 연구하고 실험하여 그 결과를 통해 해결방안을 정리하였다. 공정은 각각 레진을 Substrate에 코팅하는 도포공정, 레진이 코팅된 Substrate에 패턴이 새겨진 스탬프를 이용하여 패턴을 전사하는 전사공정, 전사 된 패턴에 UV를 조사하여 레진을 경화시키는 경화공정, 형성된 패턴을 스탬프에서 떼어내는 이형공정으로 이와 같이 4개의 공정으로 분류하였다. 공정별로 Wire screen printing, Bellows type self-balancing modul, Edge type UV curing system, DLC coating, Primer coating과 같은 해결 방안을 얻었으며, 분류한 공정별로 연구를 진행한 결과로 제작한 LGP패턴의 전사율과 전사율 편차, BLU의 휘도와 휘도 편차 등을 통해 장치를 평가하였고, 그 결과 17''이하의 대면적에 마이크로 패턴을 전사함에 있어서 높은 전사율과 낮은 전사편차, 낮은 잔류층 두께편차 등을 확인할 수 있었다.
Nano Imprint lithography is a technology that can easily print dozens of micro and nano patterns. It has been in active research since it has come up to spotlight as a substitute of the Beam lithography which uses the MEMS technology.
This paper is about the Nano Imprint lithography designing equip...
Nano Imprint lithography is a technology that can easily print dozens of micro and nano patterns. It has been in active research since it has come up to spotlight as a substitute of the Beam lithography which uses the MEMS technology.
This paper is about the Nano Imprint lithography designing equipment. We have developed an equipment by designing a UV imprint which is made using the large-area single step replication. Using this, we have created an equipment that replication the LGP patterns for the Back Lights of LCD.
We have classified the progress into 4 steps and through solving the problems of each progress, studying them, and experiment we have come up with the most suitable system.
With the manufactured equipment, we have designed and experimented the replication ratio and brightness on each 17 inch LCD for monitors and a 13 inch LGP for note PC.
We have also presented a design that shows the main steps to design factors when designing the imprint equipment by definition.
Nano Imprint lithography is a technology that can easily print dozens of micro and nano patterns. It has been in active research since it has come up to spotlight as a substitute of the Beam lithography which uses the MEMS technology.
This paper is about the Nano Imprint lithography designing equipment. We have developed an equipment by designing a UV imprint which is made using the large-area single step replication. Using this, we have created an equipment that replication the LGP patterns for the Back Lights of LCD.
We have classified the progress into 4 steps and through solving the problems of each progress, studying them, and experiment we have come up with the most suitable system.
With the manufactured equipment, we have designed and experimented the replication ratio and brightness on each 17 inch LCD for monitors and a 13 inch LGP for note PC.
We have also presented a design that shows the main steps to design factors when designing the imprint equipment by definition.
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