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NTIS 바로가기현재 반도체 산업에서 초집적화를 실현시키기 위해서 가장 중요한 공정으로 선도 기술 개발에 심혈을 기울이고 있는 부분이 리소그래피 (Lithography) 기술이다. 리소그래피 과정 중에 노광 후 열처리 공정 (Post Exposure Bake, PEB) 은 노광된 ...
저자 | 정민희 |
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학위수여기관 | 한양대학교 대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 응용물리학과 |
발행연도 | 2010 |
총페이지 | V, 35 p. |
키워드 | 응용물리학 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T11938791&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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