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NTIS 바로가기반도체 공정용 Chiller는 반도체 제조 공정중 부하변동에 따른 온도편차를 최소하기 위하여 2차냉매를 사용하여 반도체 장비를 일정온도로 유지하는 장치이다. 이 때 정밀한 온도제어를 위하여 사용되는 Chiller의 제어 방식으로 압축기의 on-off제어 방식, 2차냉매에 히터를 이용한 제어 방식, 전자식 팽창밸브와 핫가스 바이패스 등을 이용한 제어 방식이 있다. 본 연구는 위의 방식에서 전자식 팽창밸브와 핫가스 바이패스를 이용하고 전열히터를 제외한 제어 방식을 제안하였다. 이것은 기존의 방식에서 압축기의 on-off시 액압축의 문제, 2차냉매에 히터를 사용한 방식의 ...
A semiconductor processing Chiller is an equipment which controls fluctuation of the semiconductor processing chamber temperature due to load instability by using second coolant. In order to control the chiller more accurately, the special methods such as compressor on-off, the second refrigerant co...
저자 | 남승표 |
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학위수여기관 | 서울시립대학교 일반대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 기계정보공학과 로보틱스 |
지도교수 | 신동헌 |
발행연도 | 2011 |
총페이지 | iii, 29 |
키워드 | 칠러, 전자식팽창밸브, 핫가스 바이패스 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T12501014&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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