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NTIS 바로가기공정 플라즈마는 반도체 식각, 박막 증착, 표면 클리닝, 에싱 등 아주 다양한 용도로 사용되고 있다. 그중 반도체 산업에서 반도체 소자의 대량 생산과 초직접화의 경향에 따라 웨이퍼의 대면적화에 의한 플라즈마원의 발전이 되었고, 병렬 안테나를 이용한 ...
저자 | 홍광기 |
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학위수여기관 | 群山大學校 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 材料工學部 材料工學專攻 |
발행연도 | 2011 |
총페이지 | v, 54장 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T12565313&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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