본 연구에서는 MoO₃/Au/MoO₃ 구조를 사용한 고효율 OLED 소자를 제작 하였다. 삼층 막 구조의 상부 MoO₃층은 유기 정공 주입 층(HIL, hole-injection layer)인 2-TNATA를 대체하고, 하부 MoO₃ 층과 함께 삼층 막의 투과성을 증가시키는데 사용됐으며, 또한 하부 MoO₃ 층은 Au박막의 성장에 영향을 미쳐 저항을 감소시키는 역할을 한다. 이러한 500nm 파장대의 가시광선 영역에서 80%의 투과율과 10Ω/sq 이하의 낮은 저항으로 ...
본 연구에서는 MoO₃/Au/MoO₃ 구조를 사용한 고효율 OLED 소자를 제작 하였다. 삼층 막 구조의 상부 MoO₃층은 유기 정공 주입 층(HIL, hole-injection layer)인 2-TNATA를 대체하고, 하부 MoO₃ 층과 함께 삼층 막의 투과성을 증가시키는데 사용됐으며, 또한 하부 MoO₃ 층은 Au박막의 성장에 영향을 미쳐 저항을 감소시키는 역할을 한다. 이러한 500nm 파장대의 가시광선 영역에서 80%의 투과율과 10Ω/sq 이하의 낮은 저항으로 ITO 대체 전극으로 사용하기에 충분한 특성을 보였다. 그리고 이를 OLED 소자에 적용하여 그 특성을 확인한 결과, ITO 전극 사용 소자와 비교하여 동일 전압에서 전류 밀도와 발광 크기의 증가를 확인했으며, 12.8cd/A의 높은 효율을 확인하였다. 결과적으로 ITO 대체 전극으로 삼층 막 구조의 가능성을 확인하였고, 이를 바탕으로 유연한(flexible) 기판에 적용할 수 있는 MoO₃/Au/MoO₃ 전극을 개발하였다.
본 연구에서는 MoO₃/Au/MoO₃ 구조를 사용한 고효율 OLED 소자를 제작 하였다. 삼층 막 구조의 상부 MoO₃층은 유기 정공 주입 층(HIL, hole-injection layer)인 2-TNATA를 대체하고, 하부 MoO₃ 층과 함께 삼층 막의 투과성을 증가시키는데 사용됐으며, 또한 하부 MoO₃ 층은 Au 박막의 성장에 영향을 미쳐 저항을 감소시키는 역할을 한다. 이러한 500nm 파장대의 가시광선 영역에서 80%의 투과율과 10Ω/sq 이하의 낮은 저항으로 ITO 대체 전극으로 사용하기에 충분한 특성을 보였다. 그리고 이를 OLED 소자에 적용하여 그 특성을 확인한 결과, ITO 전극 사용 소자와 비교하여 동일 전압에서 전류 밀도와 발광 크기의 증가를 확인했으며, 12.8cd/A의 높은 효율을 확인하였다. 결과적으로 ITO 대체 전극으로 삼층 막 구조의 가능성을 확인하였고, 이를 바탕으로 유연한(flexible) 기판에 적용할 수 있는 MoO₃/Au/MoO₃ 전극을 개발하였다.
We have fabricated MoO₃/Au/MoO₃ nano-multilayers for transparent electrodes in green OLEDs, in which the top MoO₃ acted as an injection layer, instead of 2-TNATA. The MoO₃/Au/MoO₃ electrodes exhibits a low sheet resistance of ~10 ohm/square and high transparency of 82%~ compared with that of ITO. It...
We have fabricated MoO₃/Au/MoO₃ nano-multilayers for transparent electrodes in green OLEDs, in which the top MoO₃ acted as an injection layer, instead of 2-TNATA. The MoO₃/Au/MoO₃ electrodes exhibits a low sheet resistance of ~10 ohm/square and high transparency of 82%~ compared with that of ITO. It was found that the MoO₃ bottom layer allows for the formation of the continuous film at a low critical thickness of Au, below which discontinuous film of Au appears. The transparency is mainly dependent on the thickness variation of MoO₃ top and bottom layers, at a maximum of transparency of 88%. The optimization was carried out in terms of transparency and sheet resistance. As a result, the triple layer electrode successfully replaces ITO due to low resistance and high transparency, with top MoO₃ layer acting as a hole-injection layer. This MoO₃/Au/MoO₃ OLED resulted in high current efficiency of 12.8cd/A with a replacement of ITO
We have fabricated MoO₃/Au/MoO₃ nano-multilayers for transparent electrodes in green OLEDs, in which the top MoO₃ acted as an injection layer, instead of 2-TNATA. The MoO₃/Au/MoO₃ electrodes exhibits a low sheet resistance of ~10 ohm/square and high transparency of 82%~ compared with that of ITO. It was found that the MoO₃ bottom layer allows for the formation of the continuous film at a low critical thickness of Au, below which discontinuous film of Au appears. The transparency is mainly dependent on the thickness variation of MoO₃ top and bottom layers, at a maximum of transparency of 88%. The optimization was carried out in terms of transparency and sheet resistance. As a result, the triple layer electrode successfully replaces ITO due to low resistance and high transparency, with top MoO₃ layer acting as a hole-injection layer. This MoO₃/Au/MoO₃ OLED resulted in high current efficiency of 12.8cd/A with a replacement of ITO
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