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NTIS 바로가기최근 반도체 및 디스플레이 산업에서의 플라즈마 공정의 중요성은 점점 증대되고 있다. 특히, 반도체/LCD 제조공정에서의 Dry Etch공정은 디스플레이용 유리 위에 형성된 산화막, 금속입자, 박막, 및 Polymer와 같은 불순물들을 플라즈마를 이용하여 제거하는 공정이다. 플라즈마 공정을 진행하는 동안 몇 가지 문제점들이 이슈가 되고 있다. Etch공정에서는 활성 부식가스를 많이 사용하고 장시간 ...
저자 | 송제범 |
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학위수여기관 | 대전대학교 일반대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 신소재공학과 신소재공학 |
지도교수 | 신재수 |
발행연도 | 2013 |
총페이지 | 116 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T13107746&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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