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NTIS 바로가기반도체 및 디스플레이 산업에서 청정한 공정환경을 유지하고 오염을 방지해서 불량을 방지해야 하는 문제가 제시되고 있다. 기판 위에 형성된 금속입자, 박막, 금속 산화막, 유기물과 같은 불순물을 플라즈마를 이용하여 제거하는 공정은 반응성이 높은 식각용 가스가 사용되고, 낮은 압력, 높은 플라즈마 온도 등 여러 가지 가혹한 환경에 노출된다. 이런 환경에서 물리적인 이온충격과 화학적 ...
저자 | 최신호 |
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학위수여기관 | 대전대학교 대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 신소재공학과 |
지도교수 | 신재수 |
발행연도 | 2015 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T14007231&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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