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IT 산업의 지속적인 발전으로 휴대폰, 컴퓨터, 디스플레이 등의 수요가 증가하고 있으며, 각종 전자 기기의 개인화가 이루어지고 있다. 특히, 전자 기기의 소형화 및 고성능화를 위해 전자 기기의 경우 내장된 반도체 및 PCB의 고집적화가 요구되고 있다. 반도체, PCB의 소형화 및 고집적화를 위해서는 칩을 구성하는 단위 소자의 크기를 줄이고, 회로패턴을 미세화 하는 것이 필요하다. 반도체, PCB 제작 공정에서 미세 회로 패턴은 포토리소그래피(Photolithography)공정의 영향을 많이 받게 된다. 본 연구에서는 마스크리스 포토리소그래피 방식에서 중요한 ...

IT 산업의 지속적인 발전으로 휴대폰, 컴퓨터, 디스플레이 등의 수요가 증가하고 있으며, 각종 전자 기기의 개인화가 이루어지고 있다. 특히, 전자 기기의 소형화 및 고성능화를 위해 전자 기기의 경우 내장된 반도체 및 PCB의 고집적화가 요구되고 있다. 반도체, PCB의 소형화 및 고집적화를 위해서는 칩을 구성하는 단위 소자의 크기를 줄이고, 회로패턴을 미세화 하는 것이 필요하다. 반도체, PCB 제작 공정에서 미세 회로 패턴은 포토리소그래피(Photolithography)공정의 영향을 많이 받게 된다. 본 연구에서는 마스크리스 포토리소그래피 방식에서 중요한 노광 모듈의 분해능을 향상하고자 하였다. 노광 모듈의 주요 구성품인 광원 엔진, 조사광학계, 결상광학계에 대한 연구를 수행하고, 최종적으로 Line/Space 20㎛ 분해능을 가진 노광 모듈을 설계하고자 하였다. 본 연구에서는 385 nm와 405 nm의 다중 파장을 가지는 마스크리스 포토리소그래피 공정에 이용 가능한 5W급 UV-LED 광원을 설계를 위해 방열 모듈의 부품 및 소재에 대한 연구를 수행하였고, 방열 성능 시험과 파장 특성 시험을 통해 개발된 UV-LED 광원의 타당성을 확인하였다. 광원 빔의 손실을 최소화하고 최적의 광분포도를 가지는 광조사광학계를 구성하고 시뮬레이션과 성능 시험을 통해 구성된 광학계의 적합성을 검토하였고, 시뮬레이션 결과와 성능 시험 결과 비교를 통해 시뮬레이션의 타당성을 검증하였다. UV-LED 광원에 적합한 텔레센트릭 구조를 가지는 광결상광학계를 구성을 하였고 구성된 광학계의 왜율, 조사배율, 초점거리, 투과율과 결상면 해상도의 측정을 통해 광학계의 적합성을 확인하였다. 앞서 개발된 개별 모듈을 이용하여 UV-LED을 적용한 통합 노광엔진 모듈을 구성하였다. 개발된 노광 모듈에 적합한 노광 조건을 결정하기 위해 조사 에너지와 조사 시간을 제어 인자로 하여 패턴 시험을 통해 패턴 생성 여부를 확인하고, 최적의 생성 패턴 조건을 확인하였다.