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NTIS 바로가기Single wafer cleaning processes are widely used in wet chemical processes of semiconductor manufacturing because that type has the advantage of uniformity, particles, and contaminations compare to batch type systems. However, electrostatic charge is generated on the wafers in single type processes, ...
저자 | 이현욱 |
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학위수여기관 | 고려대학교 대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 신소재공학과 |
지도교수 | 서광석 |
발행연도 | 2017 |
총페이지 | vi, 35장 |
키워드 | wafer electrostatic charge 매엽식 웨이퍼 세정공정 스핀 척 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T14435502&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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