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각종 플라즈마 소스를 상황에 맞게 설계하거나 변형하여 전산모사를 진행하였고, 이를 통해 개선된 공정결과를 확인하였다. ICP 식각장비의 경우 기존의 antenna를 이용한 공정에서
식각율(ER: EtchRate)과 식각균일도를 개선하기 위해 구조변경을 진행하였고, 기존 공정대비 ER은 100 Å/min이 떨어지지만 균일도가 4.8% 개선된 결과를 볼 수 있었다. 또한 초미세
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저자 | 조태훈 |
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학위수여기관 | 광운대학교 대학원 |
학위구분 | 국내박사 |
학과 | 전자물리학과 |
지도교수 | 권기청 |
발행연도 | 2017 |
총페이지 | xviii, 95 p. |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T14496167&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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