초록

본 과제의 연구 개발 목적은 고밀도 플라즈마 소스를 개발하는 것으로, 본 과제의 최종 목표는 다음과 같다.
나. 연구 개발의 내용 및 범위
o 플라즈마 소스 설계
o 플라즈마 소스 제작 및 ICP 제작
o 플라즈마 특성 분석
o 플라즈마 소스 최적화

목차 Contents

• 표지 ...1
• 제출문 ...3
• 요약문 ...4
• 목차 ...8
• 제1장 서론 ...10
• 제1절 연구의 필요성 ...10
• 제2절 플라즈마 소스 개발의 국내외 기술 동향 ...11
• 제2장 본론 ...18
• 제1절 플라즈마 전산모사의 필요성 및 목적 ...18
• 제2절 플라즈마 전산모사 모델 ...20
• 가. Neutral Gas Flow Model ...20
• 나. Plasma Model ...23
• 제3절 장비 제작 및 장비 특성 ...39
• 1. 플라즈마 장비 제작 ...39
• 2. Langmuir probe에 의한 플라즈마 특성 추출 ...46
• 가. Langmuir probe ...46
• 나. Source power에 의한 플라즈마 특성 ...50
• 다. Bias power에 의한 플라즈마 특성 ...55
• 라. ICP 장비에 의한 실리카 박막의 식각 특성 ...60
• 마. Neural network modeling에 의한 식각 공정 최적화 ...65
• 제4절 측벽 코일 형태에 따른 자장의 변화 ...76
• 1. linear coil 특성(Type-I) ...76
• 2. Winding type coil의 자장 특성(Type-II) ...83
• 3. S 형 coil에 의한 자장 형성(Type-III) ...93
• 4. 시제품과 상용 영구 자석에 의한 자장과 비교 ...99
• 제5절 측벽 코일에 의한 플라즈마 특성 변화 ...113
• 1. 12.56 MHz power에 의한 플라즈마 특성 ...113
• 2. Source power에 의한 플라즈마 특성에 미치는 측벽 코일의 영향 ...118
• 3. Bias power에 의한 플라즈마에 미치는 측벽 코일의 영향 ...121
• 제3장 결론 ...126