최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기DRAM 및 3D NAND 플래시 메모리 제조공정을 위한 유전체 하부 층 HARC 식각공정에서 ACL 하드마스크가 사용되고 있다. DRAM capacitor의 ...
ACL hard mask is widely used in dielectric bottom layer HARC etching process for DRAM and 3D NAND flash memory manufacturing process. It is important to be highlight role of ACL hard mask in order to form capacitor and deep contact hole in memory device like DRAM and 3D NAND flash. ACL is deposited ...
저자 | 김광표 |
---|---|
학위수여기관 | 명지대학교 대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 전자공학과 |
지도교수 | 홍상진 |
발행연도 | 2020 |
총페이지 | ⅵ, 38 p. |
키워드 | Amorphous Carbon Layer (ACL) Etch Hard Mask Surface Chemistry Hardness |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T15498455&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.