최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기
본 연구는 열화상 센서를 이용하여 취득한 적외선 온도 데이터 값으로, 반도체 공정 진행 간 챔버 내부 및 웨이퍼의 표면 온도를 실시간으로
측정하여 사용자가 원하는 공정 결과를 얻을 수 있도록 분석하며, 공정 진행
간 사전에 interlock을 조치하여, 공정 사고를 예방 할 수 있도록, 공정
관리시스템 개발을 목표로 한다. 반도체 공정 진행 결과는 챔버 내부 조건에
따라 많은 변수가 존재한다. 챔버 내부의 배기량, 사용 약액의 토출 양/토출
시간, 공정 진행 ...
저자 | 김원호 |
---|---|
학위수여기관 | 아주대학교 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | IT융합공학과 |
지도교수 | 이기근 |
발행연도 | 2020 |
총페이지 | vi, 34장 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T15530341&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.