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ABSTRACT
Development of UFB Generator for Particle Removal in the Cleaning process of LCD manufacturing
Department of Digital Display Engineering, The Graduate School
Hoseo University
Asan, Korea
(Supervised by professor Hak-Su Kim)
디스플레이 산업분야는 매우 빠른 성장과 진화 속도를 보이고
있는 대표적인 장치산업이다.
그럼에도 디스플레이 산업은 고해상도 및 대형화를 위해 지속적인 투자가 이루어지고 있고 이에 수반해서 낮은 수율과 그에 따른 생산성 저하는 생산원가를 악화시키는 제일 큰 난제로 대두되고 있는 점이다. 이에 수율을 향상하기 위한 여러가지 기술들이 개발중에 있고 세정공정에서는 초미세기포를 활용하여 수율을 향상시키기 위해 방법에 관심이 증가하고 있다.
본 연구에서는 기존의 세정방법을 보완하여 UFB(Ultra Fine Bubble) 세정수를 활용한 세정장치를 개발하였으며, 이를 적용한 LCD/OLED 기판의 수율(생산효율)을 극대화하기 위한 세정방법을 제시하고 이를 통해 최적의 세정공정 조건과 장치를 제시하고자 한다. 기존 디스플레이 제조 공정상에서 미세 파티클을 제거하기 위한 세정공법으로 UFB 세정수 기술을 적용함에 있어 기존의 장치보다 우수한 세정력을 요구하기 때문에 본 연구에서 추진한 결과를 토대로 다음과 같은 결론을 얻었다.
UFB 제조 장치를 제작하여 기포의 크기는 100 ∼ 200 nm의 기포가 관측되었고, 농도는 최대 10 억개/cc 측정되었으며, 유로(流路) 설계 및 관련 장치 ...
저자 | 윤상 |
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학위수여기관 | 호서대학교 기술경영대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 기술경영학과 |
지도교수 | 김학수 |
발행연도 | 2020 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T15550318&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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