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NTIS 바로가기반도체는 수많은 공정을 통해서 웨이퍼 칩으로 제작이 된다. 공정 중에 미세한 오류 및 오차가 발생을 하면 그 칩은 불량이 발생하게 된다. 이런한 불량을 예방하기 위해서 수 많은 공정 Step을 모니터링 하게 된다. 전통적인 공정 모니터링 방법은 센서의 여러 측정 값이 관리하는 수치를 벗어 나는지 여부를 확인하거나, 공정의 변화를 확인하기 위해서 주기적으로 평가를 통한 결과를 확인하는 방법을 사용하여 왔다. 기존의 방식은 ...
저자 | 서정훈 |
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학위수여기관 | 한양대학교 대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 전기공학과 서울 공과대학 전기.생체공학부 전기공학과 |
지도교수 | 최준원 |
발행연도 | 2020 |
키워드 | 딥러닝 이미지 분류 이미지 개선 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T15625843&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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