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산업이 고도화되고 반도체 공정이 발전됨에 따라 반도체 공정이 미세화되고 있다. 고품질의 박막특성을 얻기 위해 반도체, 디스플레이 공정이 진행되는 진공챔버 내부의 청결 정도가 매우 중요하며 이를 위해 원격 플라즈마 발생 장치를 사용한 세정공정을 진행한다. 이때, 플라즈마를 통해 Radical을 발생시키고 진공 챔버 내부에 유입시킴으로써 공정진행 후 세정공정 단계에서 진공챔버 내에 남아 있는 불순물을 환원시키고 배출하여 반도체 미세공정과 고품질의 박막특성을 가능하게 하는 원격 플라즈마 발생 장치(...

산업이 고도화되고 반도체 공정이 발전됨에 따라 반도체 공정이 미세화되고 있다. 고품질의 박막특성을 얻기 위해 반도체, 디스플레이 공정이 진행되는 진공챔버 내부의 청결 정도가 매우 중요하며 이를 위해 원격 플라즈마 발생 장치를 사용한 세정공정을 진행한다. 이때, 플라즈마를 통해 Radical을 발생시키고 진공 챔버 내부에 유입시킴으로써 공정진행 후 세정공정 단계에서 진공챔버 내에 남아 있는 불순물을 환원시키고 배출하여 반도체 미세공정과 고품질의 박막특성을 가능하게 하는 원격 플라즈마 발생 장치(Remote Plasma Source, RPS)가 적용된다. 본 논문에서는 전원공급장치 분리형 RPS의 전원공급장치에 대해 설계 및 제작 후 적합함을 검증하기 위해 평가시스템을 사용하여 Dummy Load 상태와 Plasma Load 상태에서 검증하였다.

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