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NTIS 바로가기대한화학회지 = Journal of the Korean Chemical Society, v.34 no.5, 1990년, pp.396 - 403
김상균 (서울대학교 자연과학대학 화학과) , 최진호 (서울대학교 자연과학대학 화학과) , 주광열 (서울대학교 자연과학대학 화학과)
We describe how to design and construct a LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) apparatus which can be applicable to the study of reaction mechanism in general CVD experiments. With this apparatus we have attempted to make diamond like carbon films on the p-type (111) Si wafer from (H
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