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나프토 퀴논 디아지드 유도체의 합성 및 그 감광 특성
Synthesis and Characterization of Photosensitive Naphthoquinonediazide-sulfonyl Derivatives 원문보기

공업화학 = Applied chemistry for engineering, v.1 no.2, 1990년, pp.116 - 123  

주소영 (서울대학교 공과대학 섬유공학과) ,  홍성일 (서울대학교 공과대학 섬유공학과)

초록
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감광성 orthonaphthoquinonediazide-sulfonyl 유도체를 합성하고, 그 감광특성에 대해 검토한 결과, UV에 의해 광변환 되어, 알칼리 가용성의 분해화합물이 생성됨을 확인하였다. 이 유도체를 PAC로, m-cresol novolac을 matrix resin으로 photoresist를 제조하고 감광 특성을 고찰하여, 미세 패턴용 photoresist로의 타당성을 확인하였다. 3, 4, 5-Trihydroxybenzophenone 의 벌키한 공명 구조는 노광부의 감도와 가용성을 향상시켰으며, PAC 와 matrix resin의 혼합 무게비가 3:8 일 때 가장 적절한 dissolution rate를 나타냈으므로, 이 photoresist가 정해진 조건 하에서 감도, 해상력이 가장 우수하였다.

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

Synthesis and characterization of photosensitive orthonaphthoquinonediazide-sulfonyl derivatives were studied. These photoactive compounds underwent a UV induced transformation to the base-soluble photoproduct. The photoresists were prepared using these photoactive compounds with low molecular weigh...

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