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진공증착법으로 제조한 CdS 박막의 전기적 및 광학적 성질
Electrical and optical properties of CdS films propared by vacuum evaporation 원문보기

電氣電子材料學會誌= The journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers, v.5 no.1, 1992년, pp.71 - 80  

김동섭 (한국과학기술원 전자재료공학과) ,  김선재 (한국과학기술원 전자재료공학과) ,  박정우 (한국과학기술원 전자재료공학과) ,  임호빈 (한국과학기술원 전자재료공학과)

초록
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CdS박막을 5*$10^{-7}$Torr의 초기 진공하에서 CdS source 온도를 800~1100.deg.C로 하고 기판 온도를 100~200.deg.C로 하여 corning 7059 glass 기판위에 0.6~1.2.mu.m의 두께로 진공증착 방법으로 제조하였다. CdS soruce 온도와 기판온도가 증착된 CdS 박막의 미세구조와 결정구조 및 전기적, 광학적 성질에 미치는 영향을 알아 보았다. 기판을 가열하지 않은 경우는 source 온도가 증가할수록 전기비저항과 광투과도가 낮게 나타났다. Source 온도를 1100.deg.C로 고정하였을 경우 기판의 온도에 따라 전기비저항값과 광투과도값은 증가하였으며 optical band gap도 증가하였다. Soruce 온도가 1100.deg.C이고 기판온도가 190.deg.C일때 전기비저항값은 2*$10^{6}$ohm-cm였고 광투과도는 band gap 이상의 파장에서 80% 이상의 값을 가졌다. 증착된 CdS박막의 결정구조는 모두 hexagonal structure를 가지며 source 온도가 낮을수록 기판온도가 높을수록 C축으로 방향성있게 성장하였다.

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