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RF 마그네트론 스터터링에 의한 ZnO박막증착 및 SAW 필터 특성 분석
Deposition of ZnO Thin Films by RF Magnetron Sputtering and Charcaterization of the ZnO thin film SAW filter 원문보기

한국재료학회지 = Korean journal of materials research, v.4 no.7, 1994년, pp.783 - 791  

이용의 (서울대학교 무기재료공학과) ,  양형국 (대우전자부품) ,  김영진 (경기대학교 재료공학과) ,  한정인 (전자부품종합기술연구소 광정부품 연구실) ,  김형준 (서울대학교 무기재료공학과)

초록
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rf 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 7059 유리기판 위에 ZnO압전박막을 증착하고, 공정변수인 rf 인가전력, 반응기 압력, $O_{2}$/Ar의 조성비등이 증착되는 박막의 결정성 및 전기적 특성에 미치는 영향을 고찰하였다. 증착된 ZnO박막은 문헌에 보고된 증착속도보다 높은 값(200-1000$\AA$/min)을 가졌으며, XRD(002)피크의 rocking curve 표준편차SAW 필터로의 응용이 가능한 $6^{\circ}$미만의 값을 가졌다. $O_{2}$Ar 유입비가 25%이상의 경우에는 매우 높은 저항치를 가짐을 알 수 있었다. ZnO박막의 두께와 파장의 비, $\frac{h}{\lambda}$=0.25인 조건에서 필터를 제조하였다. 측정한 주파수 응답특성과 이론치에 의해 계산한 주파수응답특성은 비교적 잘 일치함을 알 수 있었다. 이때 중심주파수는 39.08MHz였으며, 상속도는 \ulcorner 2501m/sec, 삽입손실은 약 29dB였다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Piezoelectric ZnO thin films were deposited on 7059 glass substrate by rf magnetron sputtering. The effects of deposition parameter, such as rf power, gas pressure and $O_{2}$/Ar gas ratio, on the crystallinity and electrical properties of the deposited ZnO thin films were studied. It was...

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