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NTIS 바로가기韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society, v.4 no.S1, 1995년, pp.1 - 6
김동환 (포항공과대학교 화학공학과 재료공정 연구실) , 이일정 (포항공과대학교 화학공학과 재료공정 연구실) , 이시우 (포항공과대학교 화학공학과 재료공정 연구실)
Polycrystalline Si films have been used in many applications such as thin film transistors(TFT), image sensors and LSI applications. In this research deposition of Si films at low temperatures with remote plasma enhanced CVD from Si2H6-SiF4-H2 on SiO2 was studied and their crystallinity was investig...
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