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[국내논문] 수소 기체와 HMDS 프리커서의 저온 PECVD공정을 통한 실리콘옥사이드 박막의 표면에너지 개질
Surface energy modification of SiOxCyHz film using low temperature PECVD by controlling the plasma process for HMDS precursor with hydrogen gas 원문보기

한국표면공학회 2012년도 추계총회 및 학술대회 논문집, 2012 Nov. 08, 2012년, pp.165 - 166  

이준석 (성균관대학교 신소재공학과, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ,  진수봉 (성균관대학교 신소재공학과, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ,  최윤석 (성균관대학교 신소재공학과, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ,  최인식 (성균관대학교 신소재공학과, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ,  한전건 (성균관대학교 신소재공학과, 플라즈마 나노 신소재 연구소)

초록
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표면의 젖음성은 어플리케이션의 매우 중요한 점으로, 이것은 표면에너지와 표면의 조도에 의해 결정된다. 표면의 젖음성을 낮추기 위하여 저온 PECVD 공정을 통해 초소수성 박막을 만들었다. $SiO_xC_yH_z$ 필름을 만들기 위하여 RF power을 사용하였고, HMDS (hexamethyl-disilazane) precursor과 함께 수소 기체를 통해 증착하였다. 이 실험에서는 수소와 RF power를 변수로 진행하였고, 이것은 소수성 박막의 표면에너지를 변화시켰다. 필름을 합성한 후 contact angle measurement 및 AFM을 사용해 표면에너지와 표면조도를 관찰하였다. 또한 필름의 화학적 결합을 알기 위해 FT-IR을 이용하였다. 여기에서 표면의 에너지는 표면의 조도와 화학적 결합상태에 의해서 영향을 받았음을 알 수 있었다.

AI 본문요약
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제안 방법

  • 그리고 소수성 박막을 코팅하였을 때에는 필름의 조도가 중요하게 여겨지고 있다. 이 연구에서는 소수성박막을 PECVD를 이용하여 기판에 코팅을 하였으며, 필름의 조도를 알아보기 위해 AFM을 이용한 분석을 하였다.

대상 데이터

  • 본 연구에서는 플라즈마를 이용한 화학증착공정 (Fig 1)을 이용하였고, Table 1에는 이 공정에서의 변수를 나타냈다. 공정을 하는데 있어서 초기압력은 <0.

이론/모형

  • 표면의 에너지를 분석하기 위해서 Water contact angle measurement를 사용하였으며, 표면의 화학적 결합을 알아보기 위하여 FT-IR을 이용하였고, 표면 조도를 분석하기 위해 AFM을 이용하였다. 그 결과, 가해주는 전력이 커질수록 표면 조도가 더 거칠어지는 것을 확인할 수 있었으며, 140 W에서는 매우 거칠어지는 것을 보았다.
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