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NTIS 바로가기한국표면공학회지 = Journal of the Korean institute of surface engineering, v.28 no.4, 1995년, pp.225 - 235
최지환 (한양대학교 금속공학과) , 박정일 (국립공업기술원 무기화학과) , 박광자 (국립공업기술원 무기화학과) , 이은아 (쌍용 양회 중앙연구소) , 장감용 (쌍용 양회 중앙연구소) , 박종완 (한양대학교 금속공학과)
To investigate the effects of pretreatment and substrate bias on the characteristics of the diamond thin films, the thin films were deposited on the p-type Si(100) wafer by MPECVD using mixtures of
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