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NTIS 바로가기電氣電子材料學會誌= The journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers, v.9 no.9, 1996년, pp.918 - 924
박세근 (인하대학교 반도체 및 박막기술연구소 전자재료공학과) , 이종근 (인하대학교 반도체 및 박막기술연구소 전자재료공학과)
A downstream oxygen plasma is generated by capacitively coupled RF power and applied to photoresist stripping. Stripping rate (ashing rate) is measured in terms of RF power, chamber pressure, oxygen flow rate and temperature. Ashing reaction is thermally activated and depends on oxygen radical densi...
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