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NTIS 바로가기韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society, v.6 no.3, 1997년, pp.267 - 274
이주훈 (성균관대학교 재료공학과) , 이영준 (성균관대학교 재료공학과) , 김현수 (성균관대학교 재료공학과) , 이주욱 (한국과학기술원 재료공학과) , 이정용 (한국과학기술원 재료공학과) , 염근영 (성균관대학교 재료공학과)
Silicon shallow trenches applied to the STI (Shallow Trench Isolation) of integrated circuits were etched using inductively coupled
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