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NTIS 바로가기전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.11 no.10, 1998년, pp.804 - 808
김창일 (중앙대학교 전자전기공학부) , 권광후 (한서대학교 전자공학과)
The inductively coupled plasma(ICP) etching of platinum with BCl
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